Patent™ 2p 4.1x11 EP 5.2

Art.Nr.:
P2S4111
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2-teiliges Zirkondioxid-Implantat ø 4,1 mm | Länge 11,0 mm | Emergenzprofil (EP) 5,2 mm.
Das zweiteilige Patent-Implantat ist ein enossales, rotationssymmetrisches Implantat aus Zirkondioxid. Es kann in allen Knochenqualitäten des Ober- und Unterkiefers (D1–D4) mit und ohne Augmentation eingesetzt werden. Patent-Implantate sind auf Knochenniveau zu inserieren. Durch unterschiedliche Durchmesser und Längen ist ein weit gefächertes Indikationsspektrum gegeben. Sie eignen sich zur Insertion in den bereits langzeitig abgeheilten Kieferknochen (Spätimplantation), zur verzögerten Insertion (6–8 Wochen nach Zahnextraktion) und zur Sofortimplantation (direkt nach Zahnextraktion – unter entsprechenden Bedingungen). Beachten Sie bitte die Indikationseinschränkungen in der jeweiligen Gebrauchsanleitung. Das Post besteht aus Glasfaser und kann intra- und extraoral beschliffen werden. Es wird mit dem Implantatkörper supragingival spaltfrei verklebt. Material: Zirkondioxid

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